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工業(yè)在線粒度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
1. 為什么使用在線粒度儀？
粒度分析對(duì)于很多工業(yè)企業(yè)具有重要意義，尤其是在中國(guó)工業(yè)已由粗放型轉(zhuǎn)為精細(xì)化生產(chǎn)的狀況下，最終產(chǎn)品或中間產(chǎn)品的粒度大小決定了產(chǎn)品售價(jià)、利用率，能效、環(huán)保等各方面的水平高低，直接影響企業(yè)的效益。
2. 常用的測(cè)試原理
測(cè)試原理1：顆粒圖像技術(shù)
由于本世紀(jì)初數(shù)字圖像硬件（CCD和CMOS）取得突破性進(jìn)步，使得近年來(lái)圖像顆粒測(cè)試法成為相對(duì)先進(jìn)測(cè)試方法，是一種直接測(cè)試法，可以直接獲得顆粒的照片，從而獲得顆粒的粒度分布以及其形貌參數(shù)，這是其他任何測(cè)試方法所不具備的。圖像法*為未來(lái)的顆粒測(cè)試趨勢(shì)。一般原理圖如下：
專門(mén)設(shè)計(jì)的遠(yuǎn)心（或雙遠(yuǎn)心）光學(xué)鏡頭組，配合平行光源將測(cè)試區(qū)域顆粒的形貌直接投射到高速相機(jī)的成像靶面上。
可采集到獲得大量如下圖所示的顆粒照片，通過(guò)我們的軟件系統(tǒng)，將圖片上顆粒的信息讀取出來(lái)即可獲得參與測(cè)試的數(shù)萬(wàn)甚至數(shù)十萬(wàn)的顆粒數(shù)據(jù)，具有足夠的代表性。
特點(diǎn)
• 優(yōu)勢(shì)范圍：20微米以上均可，理論上沒(méi)有測(cè)試上限
• 直接測(cè)試法，不需要經(jīng)過(guò)數(shù)學(xué)模型即可得到顆粒真實(shí)數(shù)據(jù)，結(jié)果可靠
• 可獲得球形度、圓形度、長(zhǎng)徑比等形狀參數(shù)，在一些行業(yè)具有重要價(jià)值
測(cè)試原理2：激光散射技術(shù)
現(xiàn)階段應(yīng)用較廣泛的粒度測(cè)試方法，以夫瑯禾費(fèi)和MIE理論為基礎(chǔ)的激光衍射法，仍然是一種間接測(cè)試法，通過(guò)獲得顆粒的衍射散射能譜來(lái)推導(dǎo)出顆粒的分布數(shù)據(jù)，此方法在上世紀(jì)90年代開(kāi)始在中國(guó)顆粒測(cè)試領(lǐng)域廣泛普及，發(fā)展到今天已成為各行業(yè)國(guó)標(biāo)中常采用的分析方法。原理圖如下
激光照射到測(cè)試區(qū)顆粒時(shí)產(chǎn)生的散射和衍射光線經(jīng)過(guò)傅里葉透鏡組的處理，被光電探測(cè)器感知，根據(jù)其能譜的范圍使用MIE理論和夫瑯禾費(fèi)理論公式，可推導(dǎo)出其粒度分布情況。如下圖
特點(diǎn)
• 優(yōu)勢(shì)測(cè)試范圍：0.1微米——500微米
• 現(xiàn)階段普及度較廣的測(cè)試方法，數(shù)據(jù)對(duì)比性強(qiáng)
• 測(cè)試時(shí)間短，較適用于要求測(cè)試周期短的用戶
工業(yè)在線粒度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)